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型号:

ME-L 穆勒矩阵椭偏仪03090801

描述:产品简介:ME-L是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪,凝聚了科研团队在椭偏技术多年的投入,其采用行业前沿的创新技术,包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等

  • 厂商性质

    经销商
  • 更新时间

    2024-03-07
  • 访问量

    192
详细介绍

 

 

 

 

 

img1

 

产品简介: ME-L 是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪,凝聚了科研团队在椭偏技术多年的投入, 其采用行业前沿的创新技术,包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用 于半导体薄膜结构,半导体周期性纳米结构,新材料,新物理现象研究,平板显示,光伏太阳能,功能性 涂料,生物和化学工程,块状材料分析以及各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维 /二维纳米光栅材料结构的表征分析。

双旋转补偿器(DRC)配置一次测量全部穆勒矩阵 16 个元素;配置自动变角器、五维样件控制平台等优质硬 件模块,软件交互式界面配合辅助向导式设计,易上手、操作便捷;丰富的数据库和几何结构模型库,保 证强大数据分析能力。

产品型号

ME-L 全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪

主要特点

1、采用氘灯和卤素灯复合光源,光谱覆盖紫外到近红外范围img2(193-2500nm)

 

2、可实现穆勒矩阵数据处理,测量信息量更大,测量速度快、数据更加精准

 

3、基于双旋转补偿器配置, 可一次测量获得全部穆勒矩阵的 16 个元素,相对传统光谱

椭偏仪可获取更加丰富全面的测量信息

 

4、颐光技术确保在宽光谱范围内,提供优质稳定的各波段光谱

 

5、数百种材料数据库、多种算法模型库,涵盖了目前绝大部分的光电材料

 

6、集成对纳米光栅的分析img3可同时测量分析纳米结构周期、线宽、线高、侧壁角、粗糙

度等几何形貌信息

技术参数

1、应用:科研级/企业级

 

2、基本功能: Psi/Delta、R/T、穆勒矩阵等光谱

 

3、分析光谱: 380-1000nm(支持扩展至210-1650nm)

 

4、单次测量时间: 1-8s

 

5、重复性测量精度: 0.005nm

 

6、精度(直通测量空气)

 

椭偏参数: ψ=45±0.05°△=0±0.1°

 

穆勒矩阵:对角元素 m=1±0.005; 非对角元素 m=0±0.005

 

7、光斑大小: 大光斑 2-3mmimg4微光斑 200 μm

可选配置

波段选择

V:380-1000nm

UV:245-1000nm

XN:210-1650nm

DN+:193-2500nm

角度选择

自动:45-90°

手动:55-75°(5°步进),90°

固定:65°

其他选择

Mapping 选择:100×100mm(供参考,按需定制)

温控台:室温一 600C(供参考,按需定制)

可选配件

1

温控台

2

Mapping 扩展模块

3

真空泵

4

透射吸附组件

 

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