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型号:

SE-Mapping光谱椭偏仪03090805

描述:产品简介:SE-Mapping光谱椭偏仪是一款可定制化Mapping绘制化测量光谱椭偏仪,采用行业前沿创新技术,配置全自动Mapping测量模块,通过椭偏参数、透射/反射率等参数的测量,快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析

  • 厂商性质

    经销商
  • 更新时间

    2024-03-07
  • 访问量

    237
详细介绍

 

 

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产品简介: SE-Mapping 光谱椭偏仪是一款可定制化 Mapping绘制化测量光谱椭偏仪,采用行业前沿创新技术,配置全自动 Mapping测量模块,通过椭偏参数、透射/反射率等参数的测量,快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析。SE-Mapping谱椭偏仪广泛应用OLED,LED,光伏,集成电路等工业应用中,实现大尺寸全基片膜厚、光学常数以及膜厚分布快速测量与表征。

 

 

 

产品型号

SE-Mapping 光谱椭偏仪

主要特点

1、全基片椭偏绘制化测量解决方案

 

2、支持产品设计以及功能模块定制化,一键绘制测量

 

3、配置 Mapping 模块,全基片自定义多点定位测量能力

 

4、丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力

 

5、采用氘灯和卤素灯复合光源,光谱覆盖紫外到近红外范围

(193-2500nm)

 

6、高精度旋转补偿器调制、 PCRSA 配置, 实现Psi/Delta光谱数据高速采

7、具备全基片自定义多点自动定位测量能力,提供全面膜厚检测分析报告

 
1、自动化程度:固定角+img5mapping

2、应用定位:检測型

 

3、基本功能: Psi/Delta、N/C/S、R 等光谱

 

4、分析光谱: 380-1000nm(可扩至 193-2500nm)

 

5、单次测量时间: 0.5-5s

 

6、重复性测量精度: 0.01nm

 

7、光斑大小: 大光斑 2-3mm,微光斑200um

 

8、入射角调节方式:固定角

 

9、入射角范围: 65°

 

10、找焦方式:手动找焦

 

11、Mapping1 程: 300x300mm

 

12、支持样件尺寸:  300mm

可选配件

3

真空泵

4

透射吸附组件

 

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