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型号:

VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪

描述:产品简介:VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪靶头尺寸为2英寸,样品台与溅射头之间的高度在30-80mm之间可以调节

  • 厂商性质

    经销商
  • 更新时间

    2024-03-07
  • 访问量

    230
详细介绍

 

 

 

 

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产品简介: VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪靶头尺寸为2英寸, 样品台与溅射头之间的高度在 30-80mm 之间可以调节。安装有一可手动操作的溅射挡板,可进行预溅射。溅射头对样品的溅射时间在1-120s 之间可调,若想获得薄的薄膜,溅射时间可以设置短一点img4若想获得厚的薄膜,溅射时间可以长一点。VTC-16-D 小型直流磁控等离子溅射仪设计主要是制作一些金属薄膜制膜面积可达到4英寸。设备外 形小巧,性价比高,是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空泵搭配设备使用。

 

产品名称

VTC-16-D 小型直流磁控等离子溅射仪

产品型号

VTC-16-D

 

 

主要特点

1 、特别为 SEM 样品镀导电性薄膜设计。

2、体积小巧,操作简单,容易上手。

3、拥有小型磁控靶头,可以镀金银铂等金属。

 

1、输入电源: 220V AC 50/60Hz

2、功率: 200W

3、输出电压: 500 VDC

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

技术参数

4、溅射电流: 0-50 mA 可调

5、溅射时间: 0-120S 可调

6、溅射腔体

1)采用石英腔体,尺寸: 166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H

2)密封: 采用不锈钢平法兰的 O 形密封圈

7、溅射头&样品台

l)溅射头可安装靶材直径为 2 英寸, 厚度 0.1 - 2.5mm

2)溅射时间 1-120S 可调

3)仪器中安装有直径为 50mm 的不锈钢样品台, 其与溅射头之间距离 30-80mm 可调。

4)可选购加热型样品台,其加热温度可达 500℃

5)安装有一可手动操作的溅射挡板,可进行预溅射

6)制膜的直径可达:4 英寸(仅供参考,详情请点击)

 

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8、真空系统

l)安装有 KF25 真空接口 2)数字真空压力表(Pa 3)此系统可通入气体运行

4< 1.0E-2 Torr    (采用机械泵)

5< 1.0E-5 Torr  (采用涡旋分子泵)

9、进气

l)设备上配 1/4 英寸进气口,方便连接气瓶

2)设备前面板上装有一气流调节旋钮,方便调节气流

10、靶材

l)靶材尺寸要求: Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度)

2)设备标配为铜靶

11、产品外型尺寸

L460 mm × W 330 mm × H 540 mm

 

 

 

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