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型号:

小型粉末PVD包覆系统(DC磁控溅射-振动样品台)VTC-16PW

描述:产品详细介绍:小型粉末PVD包覆系统VTC-16PW是一款小型粉末包覆系统,主要有2英寸磁控溅射头和振动样品台组成

  • 厂商性质

    经销商
  • 更新时间

    2024-03-07
  • 访问量

    257
详细介绍




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产品详细介绍:   小型粉末 PVD 包覆系统 VTC-16PW 是一款小型粉末包覆系统,主要有 2 英寸磁控溅射头 和振动样品台组成。粉末在振动样品台上振动翻滚,通过溅射在粉末表面进行包覆形成核壳结构。直流磁 控溅射适合粉体表面包覆金属材料.射频磁控溅射适合材料表面包覆非金属材料或碳。




产品型号

小型粉末 PVD 包覆系统 VTC-16PW

产品特点

1、可对粉体材料进行表面包覆:采用磁控溅射,溅射时粉体材料在振动样品台上翻滚, 达到粉体表面均匀包覆


2、设备小巧可在手套箱内使用,可处理样敏感性材料

技术参数

1、输入电压:  220 VAC 50/60Hz

2、电源输出:1600 VDC 250 W

3、电流:  150 mA .

4、溅射头:  2 英寸角度可调节溅射头

5、振动样品台:

样品台振动频率可调节:  6-33Hz

样品台直径为 50mm

建议样品量: < 500 mg

建议颗粒尺寸: 1 ~ 1000um

石英腔体尺寸:  165 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm H

6、真空度:

①1.0E-2 Torr (采用机械泵),  可溅射 Au, Ag, Pt, Cu, Mo 等靶

  1.0E-5 Torr  (采用分子泵  可溅射 Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn 等易氧化金属靶真空 度可达到< 4.0E-6 Torr(分子泵系统抽时间 12 小时,腔体进行烘烤)

7、  CE 认证




产品规格

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注意事项

警告:

1、溅射头与高压电源相连接,操作时必须佩带防护手套                                             2、溅射前必须确保靶材,溅射头,基片和样品台清洁,需要用砂纸和乙醇来清洗,  Al 或是 Ni 靶每次使用时都必须清洗和处理

注意:粉末样品必须干燥和分散


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