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型号:

VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪

描述:产品简介:VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

  • 厂商性质

    经销商
  • 更新时间

    2024-03-07
  • 访问量

    239
详细介绍


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产品简介: VTC-600-3HD 三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、 导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙 烯薄膜等。 VTC-600-3HD 三靶磁控溅射仪配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜, 两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。 与同类设备相比, 其不仅应用广泛, 且具有体积小便于操 作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备, 特别适用于实验室研究固态电解质及 OLED 等。




产品名称

VTC-600-3HD 三靶磁控溅射仪

产品型号

VTC-600-3HD

安装条件

本设备要求在海拔 1000m 以下, 温度 25℃±15℃ ,湿度 55%Rh±10%Rh 下使用。


1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)


2、电: AC220V 50Hz,必须有良好接地


3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度 99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带 Ø6mm 双卡套


接头)及减压阀





4、工作台: 尺寸 1500mm×600mm×700mm ,承重 200kg 以上


5、通风装置:需要

主要特点

1 、配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导 电性材料的溅射镀膜(靶枪可以根据客户需要任何调换)。


2、可制备多种薄膜,应用广泛。


3、体积小,操作简便。


4、整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整。


5、可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪。

技术参数

1、电源电压: 220V    50Hz


2、总功率:<2.5KW


3、极限真空度: < E-6mbar  (配合本公司设备使用可达到img2E-5mbar


4、工作温度: RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)


5、靶枪数量: 3 


6、靶枪冷却方式:水冷


7 、靶材尺寸: Ø2″ ,厚度 0.1mm-5mm  (因靶材材质不同厚度有所不同)


8、直流溅射功率: 500W (可选)


9、射频溅射功率: 300W/500W (可选)


10、载样台: Ø140mm


11、载样台转速: 1rpm-20rpm 内可调


12、保护气体: Ar N2 等惰性气体


13、进气气路: 质量流量计控制 2 路进气, 1 个流量为 100 SCCM 1 个流量为 200 SCCM

产品规格

主机尺寸: 500mm ×560mm×660mm ,整机尺寸: 1300mm ×660mm×1200mm;重量: 160kg

标准配件

1

直流电源控制系统

2 





2

射频电源控制系统

1 

3

膜厚监测仪系统

1 

4

分子泵(德国进口)

1 

5

冷水机

1 

6

冷却水管(Ø6mm

4 

可选配件

金、铟、银、铂等各种靶材


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