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型号:

1600℃双温区高温真空管式炉GSL-1600X-Ⅱ

描述:产品简介:1600℃双温区高温真空管式炉GSL-1600X-Ⅱ每个加热区域长300mm,由30段智能温度调节仪进行控温,采用硅钼棒加热元件温度可达1600℃,采用硅碳棒加热元件温度可达1400℃,通过调节两个温区的控温程序使炉管内温度场形成一温度梯度

  • 厂商性质

    经销商
  • 更新时间

    2024-03-12
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详细介绍

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产品简介: 1600℃双温区高温真空管式炉 GSL-1600X- Ⅱ每个加热区域长 300mm ,由 30 段智能温度调节仪 进行控温,采用硅钼棒加热元件温度可达 1600℃,采用硅碳棒加热元件温度可达 1400℃,通过调节两个温 区的控温程序使炉管内温度场形成一温度梯度。本机可用于 CVD  PVD 方法来生长纳米材料和制作各种 薄膜。


产品型号

1600℃双温区高温真空管式炉 GSL-1600X- 

安装条件

本设备要求在海拔 1000m 以下, 温度 25℃±15℃ ,湿度 55%Rh±10%Rh 下使用。

1、水:不需要

2、电: AC220V 50Hz,必须有良好接地

3 、气: 如作为 CVD 系统使用,需自备气源 (标准带有宝塔接头,可自费改制成为双卡套接头)

4、工作台: 尺寸 1200mm×600mm×700mm ,承重 300kg 以上

5、通风装置:需要

主要特点

1、双层壳体,炉膛采用高纯氧化铝纤维,设有风冷系统,壳体表面温度<60℃。


2 、内炉膛表面涂有美国进口氧化铝涂层,可以提高加热效率,同时延长使用寿命。


3 PID 控制器, 可以设置 30 段升降温程序,设有过热和断偶报警功能。


4 、已通过 CE 认证。

技术参数

1 、电源: AC 220V    50Hz/60Hz    9KW


2、氧化铝陶瓷管: 外径 Ø60mm Ø80mm ,长 1000mm


3、加热元件: 1500℃级硅碳棒(温区 I), 1700级硅钼棒(温区 II


4、加热区域: 每个温区 300mm





5、恒温区域: 每个温区 100mm


6 、工作温度: 800-1400℃(温区 I), 800-1600℃(温区 II


7、升温速率: 10/min


8、控温精度:± 1


9、热电偶: B 

产品规格

尺寸: 780mm×450mm×720mm;重量: 150kg

标准配件

1

氧化铝陶瓷管

1 

2

氧化铝管堵

4 

3

不锈钢法兰

1 

4

高温手套

1 

可选配件

1、铰链式法兰


2 KF25 转接头


3 VCR 双卡套接头


4、数字真空计


5、坩埚钳


6、高真空系统


7、供气混气系统


8、双级旋片真空泵


9 PC 控制软件


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