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型号:

快速升温CVD系统RTP-1000-F3LV

描述:产品简介:快速升温CVD系统RTP-1000-F3LV是专为半导体基片、太阳能电池及其它样品(尺寸可达3″)的退火而设计,配有3路流量计和机械泵

  • 厂商性质

    经销商
  • 更新时间

    2024-03-12
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    125
详细介绍


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产品简介: 快速升温 CVD 系统 RTP-1000-F3LV 是专为半导体基片、太阳能电池及其它样品(尺寸可达

3″ )的退火而设计, 配有 3 路流量计和机械泵。本机采用 9KW 的红外灯进行加热, 升温速度可达

100/s ,配有 RS485 接口,可以通过控制软件在计算机上控制运行并显示温度曲线。



产品型号

快速升温 CVD 系统 RTP-1000-F3LV

安装条件

本设备要求在海拔 1000m 以下, 温度 25℃±15℃ ,湿度 55%Rh±10%Rh 下使用。


1、水:不需要


2、电: AC220V 50Hz,必须有良好接地


3、气:设备腔室内需充注气体,需自备气瓶气源


4、工作台: 尺寸 600mm×600mm×700mm ,承重 50kg 以上


5、通风装置:需要

主要特点

1 、双层 Al2O3 纤维钢构,无需水冷或风冷。


2、内炉膛表面涂有进口高温氧化铝涂层,可以提高设备的加热效率及延长仪器的使用寿命。


3 PID 控制器 ,可以设置 30 段升降温程序,并设有过热保护和断偶功能。


4 、已通过 CE 认证。

技术参数

1 、电源: 单相 208V-240V AC    50Hz/60Hz    9KW


2、石英管: 外径 Ø110mm ,内径 Ø103mm ,长 380mm


3、加热元件:红外灯管, 直径 Ø10mm ,长 300mm


4、加热区: 300mm





5 、工作温度: 温度 1100


6 、控温精度:±0.5


7、升温速度: RT-800℃时为 50/s 800-1000℃时为 10/s


8、温控仪:可控硅( SCRPID 自动控制


9 、真空法兰: 不锈钢,带有水冷接口和针阀,双层高温 O 型圈密封,长时间在>900℃条件下 运行必须采用水冷, 循环水流量为 0.5m3/hr


10、真空度: 10-3torr


11、流量计: 3 个, 量程 40cc/min-400cc/min ,精度 4%FS

产品规格

尺寸: 炉体 760mm×330mm×530mm ,真空混气系统 600mm×600mm×597mm


重量: 炉体 45kg ,真空混气系统 30kg

可选配件

防腐型数字式真空显示计


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